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| 产品分类 | 催化剂及助剂 >> 紫外线吸收剂 |
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| 英文名 | Ethyl (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphinate |
| 别名 | Phenyl(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphinic acid ethyl ester; 2,4,6-Trimethylbenzoylethoxyphenylphosphine oxide |
| 产品名称 | 2,4,6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯; 光引发剂-TPO-L |
| 分子结构 | ![]() |
| 分子式 | C18H21O3P |
| 分子量 | 316.33 |
| CAS 登录号 | 84434-11-7 |
| EC 号码 | 282-810-6 |
| 分子行输入简码 SMILES |
CCOP(=O)(C1=CC=CC=C1)C(=O)C2=C(C=C(C=C2C)C)C |
| 密度 | 1.13 g/mL |
|---|---|
| 闪点 | 184 ºC |
| 危险品标志 |
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|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 危害标签 | H317-H411 说明 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 防护标签 | P261-P272-P273-P280-P302+P352-P321-P333+P317-P362+P364-P391-P501 说明 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| 危害分类 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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| SDS | 化学品安全技术说明书参考文本 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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乙基(2,4,6-三甲基苯甲酰)苯基膦酸酯是一种著名的化学化合物,在聚合物化学和材料科学领域具有重要意义。这种化合物具有独特的化学结构,主要用作聚合过程中的光引发剂。 乙基(2,4,6-三甲基苯甲酰)苯基膦酸酯的发现源于对紫外线固化体系中有效光引发剂的需求。光引发剂在紫外线 (UV) 光下单体聚合中至关重要,可形成用于各种应用的聚合物。这种化合物的开发是为了提高聚合过程的效率和控制,特别是在高性能涂料和粘合剂中。 乙基(2,4,6-三甲基苯甲酰)苯基膦酸酯的化学结构包括连接到苯环的膦酸酯基团以及 2,4,6-三甲基苯甲酰部分。这种结构使化合物能够吸收紫外线并产生引发丙烯酸酯和其他单体聚合的活性物质。乙基进一步提高了化合物的溶解度和与各种配方的兼容性。 在实际应用中,乙基(2,4,6-三甲基苯甲酰)苯基膦酸酯用于配制紫外线固化涂料、油墨和粘合剂。其作为光引发剂的作用对于在紫外线下实现快速有效的固化至关重要,这对于需要快速加工和高质量表面处理的应用至关重要。例如,在涂料行业,这种化合物有助于生产耐用且耐磨的涂层,这些涂层可以很好地粘附在不同基材上,并提供出色的环境因素防护。 该化合物在引发聚合反应方面的效率使其在需要精确控制聚合过程的特种材料的生产中具有重要价值。其应用范围扩展到汽车、电子和包装等需要高性能材料的各个行业。通过调节这种光引发剂的浓度来微调最终产品的性能,进一步增强了其在不同应用中的实用性。 总体而言,乙基(2,4,6-三甲基苯甲酰)苯基膦酸酯是聚合物化学中的重要化合物,尤其是作为紫外线固化系统中的光引发剂。它的开发提高了聚合工艺的能力,从而提高了一系列工业应用中的性能和多功能性。 参考文献 2023. Urethane-acrylate-based photo-inks for digital light processing of flexible materials. Journal of Polymer Research, 30(3). DOI: 10.1007/s10965-023-03519-7 2023. Effect of Dispersing Additives on the Properties of Photo-Cured Suspensions Based on Stabilized Zirconium Dioxide. Refractories and Industrial Ceramics, 63(6). DOI: 10.1007/s11148-023-00768-3 2011. Multiphoton photoresists giving nanoscale resolution that is inversely dependent on exposure time. Nature Chemistry, 3(3). DOI: 10.1038/nchem.965 |
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